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真空高温CVD设备是由管式炉加热系统CVD气相沉积系统
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真空高温CVD设备是由管式炉加热系统CVD气相沉积系统

产品标签  | CVD系统 薄膜生长 气象沉积 高真空CVD设备 陶瓷薄膜

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真空高温CVD设备是由管式炉加热系统CVD气相沉积系统

多用于半导体工业中沉积薄膜材料、提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，以及大多数金属材料和合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等CVD工艺实验。

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      上海 上海 宝山区 上海市宝山区真陈路1000号1幢6楼
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    产品特性：实验室智能是否进口：否产地：上海
    加工定制：是品牌：上海盛热型号：SR-CVD
    最大电压：380V额定温度：1200/1400/1700℃

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