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多通道高真空PECVD系统PEVCD气相沉着系统多通道高低空PECVD系统
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多通道高真空PECVD系统PEVCD气相沉着系统多通道高低空PECVD系统

产品标签  | 纳米材料生长 PECVD系统 金属薄膜 陶瓷薄膜 符合薄膜

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多通道高真空PECVD系统PEVCD气相沉着系统多通道高低空PECVD系统

系统多应用于纳米材料生长，石墨烯生成，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等各种薄膜材料，可制备出高质量的透明导电膜，用作手机触摸屏，平板电脑，传感器，智能穿戴等领域；亦常用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等；

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    产品特性：实验室智能是否进口：否产地：上海
    加工定制：是品牌：上海盛热型号：SR-PECVD
    最大电压：380V额定温度：1200/1400/1700℃主要用途：纳米材料生长，石墨烯生成，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等各种薄膜材料

    多通道高真空PECVD系统PEVCD气相沉着系统多通道高低空PECVD系统详细介绍










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